X光繞射材料分析實驗室
設施簡介： X光繞射材料分析實驗室之共用核心設施提供三項X光繞射儀： X光常溫繞射儀、X光變溫繞射儀與X光三環繞射儀，提供各學術研究機構進行科學研究、實驗等所需之材料分析技術。
設施位址： 物理研究所地下室一樓B1A
管理人員： 物理研究所研究助技師 歐敏男 博士：2789-8991
業務承辦： 物理研究所兼任助理 蔡益嘉先生、蔡瑋瀚先生
連絡電話： 蔡益嘉先生：02-2789-8405
蔡瑋瀚先生：02-2789-8301
設施網址： https://www.phys.sinica.edu.tw/~XRDCF/
服務對象： 院內外學術機構
服務範疇： 開放自行操作項目:粉末繞射法
通過本實驗室之教育訓練與考核後可於預約系統自行預約使用時段並自行操作本設施。
主要設備：
- X光常溫繞射儀
- X光變溫繞射儀
- X光三環繞射儀
X光繞射材料分析實驗室